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■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ 川崎製鉄技報 KAWASAKI STEEL GIHO Vol.21 (1989) No.2 ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ |
| 真空パス付き超薄膜Ｘ線回析法 X-Ray Ultra-Thin Film Diffraction Method Equipped with Vacuum Pass Line 片山 道雄(Michio Katayama) 清水 真人(Masato Shimizu) 前田 千寿子(Tizuko Maeda) |
| 要旨 : Ｘ線通路に真空パスを設けた当社独自の超薄膜用Ｘ線回析ディフラクトメータを開発した。従来の大気中で測定されたＸ線回析パターンに比べ，低真空(10-2 Torr前後)に保持するだけで約30％の回析強度の向上が図られ，10nm以下の超薄膜でも検出が可能となった。実際の表面解析に本法を適用した結果では，(1)430ステンレス鋼板の電解時の酸化層は200C/dm2で約99％除去されること，(2)304ステンレス鋼板の光輝焼鈍で形成される酸化膜はFe Cr2 O4のみで-40℃より高温になると著しく増加すること，(3)Fe-B-Si系非晶質合金は，焼鈍雰囲気によって温度は一定でも，結晶化に差が生じ，また，結晶化は表層より起こることが判明した。 |
| Synopsis : A new type of X-ray diffractometer for ultra-thin-film, applicable in vacuum, has been developed. This analysis method has made it possible to increase peak intensity of diffraction measured in vacuum in comparison with in air, resulting in successful detection of an ultra-thin film less that 10 nm in thickness. Its application to the surface film analysis revealed that (1) the thickness of FeCr2O4 film formed on AISI 304 stainless steel during bright annealing increased rapidly when the dew point exceeded -40℃, and (2) crystallization temperature of amorphous metal of the Fe-B-Si system depended upon the annealing atmosphere and crystallization started at the surface. |
| 本文（PDF: 6P/253kb） |